日本EUV光刻机开始安装，准备造2nm芯片|紫外光

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据日经亚洲12月19日报道，Rapidus成为日本首家获得极紫外（EUV）光刻设备的半导体公司，已经开始在位于北海道正在建设的“IIM-1”芯片制造厂内安装极紫外光刻系统。

12月14日，荷兰供应商ASML生产的极紫外光刻系统（EUV）的第一批部件抵达机场。由于系统规模庞大，高约3.4米，每个完整的单元重达71吨，大约和一头鲸鱼一样大。它将分四个阶段进行安装，设备安装预计在本月底完成。

极紫外光刻设备结合了特殊的光源、透镜和其他技术，以形成超精细的电路图案。因为系统的体积较大，因此对振动和其他干扰的敏感度较低。

11月，Rapidus CEO 小池淳义带ASML监事会成员Martin van den Brink参观了洁净室和其他厂房。Martin van den Brink曾担任首席技术官，在开发极紫外光（EUV）技术方面发挥了关键作用，他批准了设备的安装。

ASML是全球唯一一家极紫外光刻系统供应商。每套系统的价格在1.8亿美元（约合人民币13.1亿元）以上，具体价格取决于型号。这些系统需要高水平的操作技能，只有少数芯片制造商包括台积电、三星电子和英特尔采用了EUV系统。去年全球仅交付了42套系统。

Rapidus正在与美国科技巨头国际商业机器公司IBM合作开发多阈值电压GAA(全环绕栅极）晶体管技术，这些技术有望用于2nm制程的量产。Rapidus计划在2025年春季使用最先进的2纳米工艺开发原型芯片，于2027年开始大规模生产芯片。全球最大芯片代工厂台积电的目标是于2025年开始大规模生产2纳米芯片。

更精细的电路能为逻辑芯片提供更高的能效和计算能力。先进的芯片在未来几十年内决定经济主导地位的人工智能和其他技术中至关重要。

日本的半导体产业在20世纪80年代曾占有全球市场份额超50%，但到了21世纪，因为技术发展的滞后，日本的芯片制造商无法生产出比40纳米更先进的芯片，退出了生产更小工艺逻辑芯片的竞争行列。

Rapidus由政府支持，旨在恢复日本生产先进芯片的能力，减少对进口的依赖。日本政府的目标是到2030年，日本芯片制造商的销售额达到1.5万亿日元（约合人民币705亿元），是2020年的三倍。

目前，日本政府已决定向Rapidus提供9200亿日元（约合人民币432亿元）的补助，并计划在2025财年向Rapidus投资2000亿日元（约合人民币94亿元）。不过，Rapidus仍然面临4万亿日元（约合人民币1881亿元）的资金缺口。

“我们将从北海道和日本向全世界输送尖端半导体，”12月18日在新千岁机场举行的仪式上，小池这样说道。

日本建筑商鹿岛建设正在建造将容纳Rapidus的极紫外光刻系统（EUV）的建筑。洁净室由高砂热工工程建造。

日本政府的数据显示，全球高端半导体市场预计到2030年将达5.3万亿日元（约合人民币2900亿元），较2020年增长近8倍。

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